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（Ⅲ）与经典2D光催化材料相比，源电2DTMDs用于光催化的独特优势本节从当前的角度解释了为什么2DTMDs能够在光催化中从许多经典2D光催化材料中脱颖而出。力消（3）表面氧化还原反应。

2DTMDs的水/溶剂热合成在密封容器中的高温和高压下进行，纳监并使用水/有机溶剂作为反应介质，纳监在此过程中金属前驱体（如钼酸）和硫族前驱体（例如硫脲）相互反应形成TMD晶体。尽管如此，测预该策略仍处于起步阶段，其实施通常需要苛刻的条件（如高温和高真空条件）。警平未来应开展针对该主题的其他研究（基于2DTMDs的光催化中的掺杂和空位工程）。

在这项研究中，台启使用基于2DTMDs的范德华异质结构（由MoS2单层和WS2单层构建）作为模型，证明了载流子在范德华界面的超快转移。全国图4|光催化的基础知识。

通过以悬浮液的形式储存2DTMD，源电并通过流变调控、或共价功能化使其稳定，可以应对这一挑战。

因此，力消通常需要在半导体表面负载助催化剂，以促进电荷分离和转移，并降低活化能。第二次世界大战时由占领军传入日本，纳监后由日本传入中国台湾，近几年才传入中国内陆，在国内开始蓬勃发展。

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